薄膜硅晶圆新制造技术

位于加州圣何塞的工程基片工艺和技术的领导厂商和束流诱导太阳能电池晶圆制造

技术的先锋企业

Silicon Genesis 宣布，该公司已经最终确定了用于制造薄膜太阳能电池

硅晶圆的第二代生产系统的规格。该系统设计成功是

6 年多以来开发、原型测试并与太阳

能电池合作伙伴一起采用众多设备对太阳能电池材料进行评估的成果。新

GenII 

PolyMax™系统的推出得益于 SiGen 之前获取的众多业界首创成就，包括率先制造出独
立式的

20um（微米）、50um、85um、120um 和 150um 的 125mm 和 156mm 业界标准方形

无切损单晶硅太阳能电池晶圆。这些成就为光伏业带来了首创的真正无切损单晶硅晶圆
制造技术。

　　

PolyMax 高产量制造系统的推出将推动整个产业在使用更低成本的零浪费晶圆解决

方案来代替线锯工艺方面再前进一步。

PolyMax 系统的一大关键优势在于该系统能够生

产出比线锯技术所能达到的更薄晶圆，从而使该行业能生产出拥有更高光电转换率和更
低成本的太阳能电池。

　　

Silicon Genesis 总裁兼首席执行官 Francois Henley 表示：“我们相信，太阳能产业所

面临的严峻价格压力将进一步推动质子束诱导晶圆制造工艺的推广。我们曾在

2008 年

PVSEC 大会上使用一部 200 万伏高能质子植入机原型制造出 50 um 厚的晶圆，首次推
出我们的束流诱导切削技术。我们相信，使用我们的技术将大幅削减制造高性能太阳能
电池的成本，让光伏产业能够早于预期数年在无补贴的情况下实现电网平价。这些薄和
超薄太阳能晶圆拥有良好的性能，而且已经经过了我们合作伙伴和独立第三方实验室的
测试。

”