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构成的部件,省去了

IC 的封装材料和工艺,节约了原材料,减少了制造工艺,缩小了整机

/组件封装尺寸和重量。<br/>(2)MCM 是高密度组装产品,芯片面积占基板面积至少 20%
以上,互连线长度极大缩短,封装延迟时间缩小,易于实现组件高速化。

<br/>(3)MCM

的多层布线基板导体层数应不少于

4 层,能把模拟电路、数字电路、功率器件、光电器件、微

波器件及各类片式化元器件合理而有效地组装在封装体内,形成单一半导体集成电路不可
能完成的多功能部件、子系统或系统。使线路之间的串扰噪声减少,阻抗易控,电路性能提
高。

<br/>(4)MCM 避免了单块 IC 封装的热阻、引线及焊接等一系列问题,使产品的可靠

性获得极大提高。

<br/>(5)MCM 集中了先进的半导体 IC 的微细加工技术,厚、薄膜混合

集成材料与工艺技术,厚膜、陶瓷与

PCB 的多层基板技术以及 MCM 电路的模拟、仿真、优

化设计、散热和可靠性设计、芯片的高密度互连与封装等一系列新技术,因此,有人称其为
混合形式的全片规模集成

WSI 技术。<br/>3 基本类型<br/>根据多层互连基板的结构和工艺

技术的不同,

MCM 大体上可分为三类:层压介质 MCM(MCM-L),陶瓷或玻璃瓷

MCM(MCM-C),硅或介质材料上的淀积布线 MCM(MCM-D)。表 1 给出 MCM 三种基本类
型的结构、材料和性能

[3,4]。<br/>MCM-L 是采用多层印制电路板做成的 MCM,制造工艺较

成熟,生产成本较低,但因芯片的安装方式和基板的结构所限,高密度布线困难,因此电
性能较差,主要用于

30MHz 以下的产品。MCM-C 是采用高密度多层布线陶瓷基板制成的

MCM,结构和制造工艺都与先进 IC 极为相似。其优点是布线层数多,布线密度、封装效率
和性能均较高,主要用于工作频率

30~50MHz 的高可靠产品。它的制造过程可分为高温共

烧陶瓷法

HTCC 和低温共烧陶瓷法 LTCC。由于低温下可采用 Ag、Au、Cu 等金属和一些特殊

的非传导性的材料,近年来,低温共烧陶瓷法占主导地位。

MCM-D 是采用薄膜多层布线基

板 制 成 的

MCM , 其 基 体 材 料 又 分 为 MCM-D/C ( 陶 瓷 基 体 薄 膜 多 层 布 线 基 板 的

MCM)、MCM-D/M(金属基体薄膜多层布线基板的 MCM)、MCM-D/Si(硅基薄膜多层布
线基板的

MCM)等三种,MCM-D 的组装密度很高,主要用于 500MHz 以上的产品。<br/>4 

三维多芯片组件

<br/>通常所说的多芯片组件都是指二维的(2D-MCM),它的所有元器件

都布置在一个平面上,不过它的基板内互连线的布置已是三维。随着微电子技术的进一步发
展,芯片的集成度大幅度提高,对封装的要求也越严格,

2D-MCM 的缺点也逐渐暴露出来。

目前,

2D-MCM 组装效率最高可达 85%,接近二维组装所能达到的最大理论极限,已成为

混合集成电路持续发展的障碍。为了改变这种状况,三维多芯片组件(

3D-MCM)应运而生,

其最高组装密度可达

200%。3D-MCM 是指元器件除了在 x-y 平面上展开以外,还在垂直方

向(

z 方向)上排列,与 2D-MCM 相比,3D-MCM 具有以下的优越性[5] :<br/>(1)相对

2D-MCM 而言,3D-MCM 可使系统的体积缩小到 1/10,重量减轻到 1/6。<br/>(2)芯片

之间的互连长度比

2D-MCM 短得多,因此可进一步减小信号传输延迟时间和信号噪声,降

低功耗,信号传输(处理)速度增加。

<br/>(3)组装效率已高达 200%,进一步增大了组

装效率和互连效率,因此可集成更多的功能,实现多功能的部件以至系统(整机) 。
<br/>(4)互连带宽,特别是存储器带宽往往是影响计算机和通信系统性能的重要因素。降
低延迟时间和增大总线宽度是增大信号宽度的重要方法,

3D-MCM 正好具有实现此特性的

突出优点。

<br/>(5)由于 3D-MCM 内部单位面积的互连点数大大增加,具有更高的集成

度,使其整机(或系统)的外部连接点数和插板大大减少,因此可靠性得到进一步提高 。
<br/>3D-MCM 虽然具有以上所述的优点,但仍然有一些困难需要克服。封装密度的增加,
必然导致单位基板面积上的发热量增大,因此散热是关键问题。一般如金刚石或化学汽相淀
积(

CVO)金刚石薄膜、水冷或强制空冷、导热粘胶或散热通孔。另外,作为一项新技术,

3D-MCM 还需进一步完善,更新设备,开发新的软件。<br/>5 应用及发展趋势<br/>MCM
在组装密度(封装效率)、信号传输速度、电性能以及可靠性等方面独具优势,是目前能最
大限度地提高集成度、提高高速单片

IC 性能,制作高速电子系统,实现整机小型化、多功能