太阳能硅片的清洗工艺

1.药槽清洗液最佳配比确定

由以上实验数据分析

, 

在清洗剂浓度较低时

,不能达到良好的清洗效

果

, 切割过程中吸附到 Si

 

片表面的砂浆等沾污依然停留在

S i 片表

面。提高清洗剂用量

, 砂浆残留的片数减少, 但是持续加大清洗剂用

量

, 又会造成新的污染, 即清洗剂残留，和砂浆残留一样, 

 

会影响

Si 

片的质量。

因此选择其中效果最好的配比为

2.0L。

2．药槽清洗温度的确定

药槽清洗温度设置与表面活性剂的性质密切相关，这是因为在低温

时非离子表面活性剂与水完全混溶

, 亲水基聚氧乙烯与水形成的氢键

能量低

, 随着温度升高分子热运动加剧氢键被破坏, 导致非离子表面

活性剂在水中的溶解度下降

, 当温度升高并且达到一定值时, 非离子