多晶硅片在空气中暴露时间长短对清洗效果的影响

一、试验目的：验证硅片在空气中暴露时间的长短，对硅片清洗效果的影响。

　　二、试验机床：昆山预清洗、捷佳创清洗机

　　三、试验过程：

　　分

3 组试验，所有清洗工艺相同

　　试验一、硅片在空气中暴露

15 分钟以上，表面已经风干后进行清洗

　　试验二、硅片在空气中暴露

5 分钟后进行清洗

　　试验三、硅片一直浸泡在水中，直接进入清洗机，几乎不在空气中暴露

　　砂浆信息：切割液：奥克；碳化硅：显达

　　清洗类型：多晶硅片

　　使用工艺

　　预清洗工艺：
　

　　清洗工艺：
　
　　

    

　　试验一：硅片在空气中暴露

15 分钟以上，表面已经风干后进行清洗