2. 实验室高效电池工艺 

    实验室技术通常不考虑电池制作的成本和是否可以大规模化生产，仅仅研究达到最高效

率的方法和途径，提供特定材料和工艺所能够达到的极限。

2.1 关于光的吸收

对于光吸收主要是：

（

1）降低表面反射；

（

2）改变光在电池体内的路径；

（

3）采用背面反射。

    对于单晶硅，应用各向异性化学腐蚀的方法可在（100）表面制作金字塔状的绒面结构，

降低表面光反射。但多晶硅晶向偏离（

100）面，采用上面的方法无法作出均匀的绒面，目

前采用下列方法

:

    [1]激光刻槽

    用激光刻槽的方法可在多晶硅表面制作倒金字塔结构，在 500～900nm 光谱范围内，反

射率为

4～6％，与表面制作双层减反射膜相当。而在（100）面单晶硅化学制作绒面的反射

率为

11％。用激光制作绒面比在光滑面镀双层减反射膜层（ZnS/MgF2）电池的短路电流要

提高

4％左右，这主要是长波光（波长大于 800nm）斜射进入电池的原因。激光制作绒面存

在的问题是在刻蚀中，表面造成损伤同时引入一些杂质，要通过化学处理去除表面损伤层。

该方法所作的太阳电池通常短路电流较高，但开路电压不太高，主要原因是电池表面积增

加，引起复合电流提高。

    [2]化学刻槽

    应用掩膜（Si3N4 或 SiO2）各向同性腐蚀，腐蚀液可为酸性腐蚀液，也可为浓度较高的

氢氧化钠或氢氧化钾溶液，该方法无法形成各向异性腐蚀所形成的那种尖锥状结构。据报道，

该方法所形成的绒面对

700～1030 微米光谱范围有明显的减反射作用。但掩膜层一般要在较