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这样高的吸收系数,亦即这样小的吸收长度(

1/α),对于太阳电池基区光子的吸收、少数

载流子的收集,因而也即对光电流的收集产生了非常有利的条件。这也就是

CdS/

Cu1nSe

2

太阳电池会有

39mA/cm

2

这样高的短路电流密度的原因,这样小的吸收长度,

使薄膜的厚度可以很薄,而且薄膜的少数载流子扩散长度也是很容易超过

1/α,甚至对结

晶程度很差或者多子浓度很高的材料,其扩散长度也容易超过

V0、Cu1nSe

2

的光学性质主

要取决于材料的元素组份比、各组份的均匀性、结晶程度、晶格结构及晶界的影响。大量实验
表明,材料的元素组份与化学计量比偏离越小,结晶程度好,元素组分均匀性好,温度越
低其光学吸收特性越好。具有单一黄铜矿结构的

Cu1nSe

2

薄膜,其吸收特性比含有其它成

份和结构的薄膜要好。表现为吸收系数增高,并伴随着带隙变小。
    富 cu 的薄膜比富 1n 的薄膜吸收特性好,原因是富 Cu 的薄膜比富 In 的薄膜的结晶程
度好。沉积衬底温度高的(

770K)富 Cu 薄膜比沉积衬底温度低的(570K)薄膜的吸收特

性好

1 原因是前者具有单一的黄铜矿结构,而后者不具有。

    室温(300K)下,单晶 Cu1nSe

2

的直接带隙为

0.95eV-0.97eV。多晶薄膜为

1.02eV,而且单晶的光学吸收系数比多晶薄膜的吸收系数要大。引起这一差别的原因是由
于单晶材料较多晶薄膜有更完善的化学计量比,组份均匀性和结晶好。在惰性气体中进行热
处理后,多晶薄膜的吸收特性向单晶的情况靠近,这说明经热处理后多晶薄膜的组份和结
晶程度得到了改善。然而,有人认为这种差别是由于膜中价带边的界面态和晶粒间界的原因
造成。
     吸收特性随材料工作温度的下降而下降,其带隙随温度的下降而稍有升高。当温度由室

300K 降到 10DK 时,Eg 上升 0.02eV,即 100K 时,单晶 CulnSe

2

的带隙为

0.98eV,多晶 CulnSe

2

的带隙为

1.04eV。

     不论单晶或多晶在低吸收区出现一个尾巴,即出现了附加吸收区,该区中使得 α

2

-hv

不再为直线,不再遵从允许直接跃迁的

ahv-A(hv-Eg)

½

这一关系。

     对于单晶,这一现象由于伴随着声子吸收的跃迁产生,这种跃迁遵守 α=A'(hv-E

gi

E

p

)2/[exp(Ep/kT)-1],其中 A'为常数,E

p

为声子能量,

E

gi

为间接带隙。

     对于多晶薄膜,上述两种 α~hv 关系都不成立,这种附加吸收可能是由于 Dow-

Redfiled 效应引起的。
2.3 CulnSe

2

材料的电学性质

      CulnSe

2

材料的电学性质(电阻率、导电类型、载流子浓度、迁移率)主要取决于材料的

元素组份比,以及由于偏离化学计量比而引起的固有缺陷(如空位、填隙原子、替位原子),
此外还与非本征掺杂和晶界有关。
2.3.1 导电类型

     对材料的元素组份比接近化学计量比的情况,按照缺陷导电理论,一般有如下的结果:

Se 不足时,Se 空位呈现施主;当 Se 过量时,呈现受主;当 Cu 不足时,Cu 空位呈现

受主;当

Cu 过量时,呈现施主。当 In 不足时,In 空位呈现受主。当 In 过量时,呈现施主。

     在薄膜的成份偏离化学计量比较大的情况下,情况变得非常复杂。因为这时薄膜的组份
不再是具有单一黄铜矿结构的

CulnSe

2

,而包含其它的相(

Cu

2

S

2

Cu

2-

x

Se、In

2

Se

3

InSe…)。在这种情况下,薄膜的导电性主要由 Cu/In 比决定,一般随着 Cu

In 比的增加,其电阻率下降,p 型导电性增强。导电类型与 Se 浓度的关系不大,但是 p

型导电性随着

Se 浓度的增加而增加。

2.3.2 薄膜导电性对元素组份比的依赖
      实验证明,CulnSe

2

薄膜的导电性与薄膜的成份有如下关系:

      1)当 Cu/In>1 时,不论 Se/(Cu+In)之比大于还是小于 1,薄膜的导电类型都

p 型,而且具有低的电阻率,载流子浓度为 10

16

-10

20

cm

3

但是当

Se/(Cu+In)>1

时,发现有

Cu

2-x

Se 存在。

      2)当 Cu/In<1,若 Se/(Cu+In)>1 时,则薄膜为 p 型,具有中等的电阻率,
或薄膜为

n 型,具有高的电阻率。若 Se/(Cu+In)<1,则薄膜为 p 型,具有高的电阻

率,或薄膜为

n 型,具有低的电阻率。其中当 Cu/In<1 且 Se/(Cu+In)<1 时的高阻

p 型薄膜已在实验中获得了高效电池(10%)。
2.4.CulnSe

2

薄膜生长工艺

      Cu1nSe

2

薄膜的生长方法主要有:真空蒸发法、

Cu-In 合金膜的硒化处理法(包括电

沉积法和化学热还原法)、封闭空间的气相输运法(

CsCVT)、喷涂热解法、射频溅射法等。

24单源真空蒸发法
     首先用元素合成法制备 CulnSe

2

源材料。制法是,按化学计量比称取高纯的(

5N)Cu、

In、Se

2

粉未。一般

Se 稍过量(0.02at%)以获得 p 型材料,将源料放入一端封闭的石英