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半导体硅片清洗工艺发展方向

半导体硅片清洗工艺发展方向

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级别:| 积分:0 分 | 浏览:74540 | 大小:453.04KB | 下载:4108 次 | 上传:2013-09-30

简介:

对半导体硅片传统的RCA清洗办法中各种清洗液的清洗原理、清洗特点、清洗局限以及清洗对硅片表面微观状态的影响进行了详细的论述,同时在此基础上,对新的清洗办法(改进的RCA清洗办法)进行了一定的说明,指出了硅片清洗工艺的发展方向。

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