了一些改善，但目前还无法从根本上解决问题

　　

LTPS 技术主要技术瓶颈在晶化的过程，而 a-Si 技术虽然制造过程没有技术难题，但匹

配的

IC 的设计难度要高得很，而且目前 IC 厂商都是以 LTPS 为主流，对 a-Si 用 IC 的开发

投入少，因此如果采用

a-Si 技术进行生产，则 IC 的来源是一个严重的瓶颈和掣肘，另外器

件的性能将会大打折扣。

（

4）微晶硅技术（Microcrystalline Silicon TFT）

　　微晶硅技术在材料使用和膜层结构上，和

LCD 常见的非晶硅技术基本上是相同的。

　　微晶硅技术器件的电子迁移率可达到

1—10 cm2/V-s，是目前索尼选择的技术。

　　这种技术虽然也能达到驱动

OLED 的目的，但由于其电子迁移率低，器件显示效果差，

目前选择作为研究方向的厂家较少。

　　通过对各种

TFT 技术比较，我们可以看出，LTPS 技术主要的优点是电子迁移率极高，

完全满足

OLED 的驱动要求，而且经过几年的商业化生产，良品率已达到 90%左右，生产

成熟度高。主要的问题是初期设备投入成本高，大尺寸化比较困难。

　　金属氧化物技术电子迁移率虽然没有

LTPS 高，但能够满足 OLED 的驱动要求，并且

其大尺寸化比较容易。主要的问题是稳定性差，没有成熟的生产工艺。

　　微晶硅和非晶硅技术虽然相对简单，容易实现大尺寸化，并且在目前

LCD 生产线上可

以制造，初期的投入成本较低，但其主要的问题是电子迁移率低的问题，适合

LCD 的电压

驱动，而不适用

OLED 的电流驱动模式，并且在 OLED 没有成熟的生产经验，器件稳定性

和工艺成熟性无法保证。

　　结合目前世界上所有

AMOLED 生产厂家的实际情况，以及我们上面对几种技术的比

较和分析，我们认为广东省当前在

TFT 基板技术上应采用低温多晶硅技术（LTPS）技术，

采用激光晶化方式。同时鼓励金属诱导方式的发展，如果能够在金属诱导方面取得突破，也
可以作为一个技术方向。

　　（

5）有机膜蒸镀技术路线选择

　　有机层形成方式，可分为传统方式和新型方式。传统方式是以气相沉积技术为基础的，
而新兴方式是以转印和印刷技术为基础的。

　　新兴方式中转印技术由三星和

3M 联合开发和研制；印刷技术主要由爱普生开发和研

制。这两种方法最大的优点是提高材料使用率和简化生产制程，但其技术和材料具有一定的
垄断性，目前还不具备量产的能力。

　　传统的气相沉积方法也就是我们通常所讲的

CVD，对于有机材料的蒸发，按照蒸发源

的不同和蒸发方式的不同又分为点源式、线源式及

OVPD（有机气相沉积）。