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太阳能光伏技术入门知识(二)

在第一期中,我们为大家概括介绍了太阳能发电原理、太阳能电池、太阳能

电池组件、光伏控制器、光伏逆变器等内容。接下来将开始深入地讲解。本期我们

将着重说明太阳能电池的制造工艺详细流程、单晶硅和多晶硅的区别、单晶硅和

多晶硅电池片的区别以及逆变器的概念,将知识串连起来以便读者学习和了解。

 

 

晶体硅太阳能电池的制造工艺流程   

 

晶体硅太阳能电池的制造工艺流程说明如下:   

1)

 

切片:采用多线切割,将硅棒切割成正方形的硅片。   

2)清洗:用常规的硅片清洗方法清洗,然后用酸(或堿)溶液将硅片表

面切割损伤层除去

30-50um  

。   

3)制备绒面:用堿溶液对硅片进行各向异性腐蚀在硅片表面制备绒面。 

4)磷扩散:采用涂布源(或液态源,或固态氮化磷片状源)进行扩散,

制成

PN+结,结深一般为 0.3-0.5um  

。   

5)周边刻蚀:扩散时在硅片周边表面形成的扩散层,会使电池上下电极

 

短路,用掩蔽湿法腐蚀或等离子干法腐蚀去除周边扩散层。   

6)去除背面 PN+结。常用湿法腐蚀或磨片法除去背面 PN

 

+结。   

7)制作上下电极:用真空蒸镀、化学镀镍或铝浆印刷烧结等工艺。先制作