下面从两个方面对多晶硅电池的工艺技术进行讨论。

2. 实验室高效电池工艺

      实验室技术通常不考虑电池制作的成本和是否可以大规模化生产，仅仅研究达

到最高效率的方法和途径，提供特定材料和工艺所能够达到的极限。

2.1 关于光的吸收

对于光吸收主要是：

（

1）降低表面反射；

（

2）改变光在电池体内的路径；

（

3）采用背面反射。

对于单晶硅，应用各向异性化学腐蚀的方法可在（

100）表面制作金字塔状的绒面

结构，降低表面光反射。但多晶硅晶向偏离（

100）面，采用上面的方法无法作出

均匀的绒面，目前采用下列方法

:

    [1]激光刻槽

       用激光刻槽的方法可在多晶硅表面制作倒金字塔结构，在 500～900nm 光

谱范围内，反射率为

4～6％，与表面制作双层减反射膜相当。而在（100）面单

晶硅化学制作绒面的反射率为

11％。用激光制作绒面比在光滑面镀双层减反射膜

层（

ZnS/MgF2）电池的短路电流要提高 4％左右，这主要是长波光（波长大于

800nm）斜射进入电池的原因。激光制作绒面存在的问题是在刻蚀中，表面造成

损伤同时引入一些杂质，要通过化学处理去除表面损伤层。该方法所作的太阳电池

通常短路电流较高，但开路电压不太高，主要原因是电池表面积增加，引起复合电