规模化生产是其发展的道路，所以能够达到工业化生产的特征应该是：

<br/><br/>[1]电池

的制作工艺能够满足流水线作业；

<br/><br/>[2]能够大规模、现代化生产；<br/><br/>[3]达

到高效、低成本。

<br/><br/>当然，其主要目标是降低太阳电池的生产成本。目前多晶硅电池

的主要发展方向朝着大面积、薄衬底。例如，市场上可见到

125?25mm2、150?50mm2 甚至更

大规模的单片电池，厚度从原来的

300 微米减小到目前的 250、200 及 200 微米以下。效率得

到大幅度的提高。日本京磁（

Kyocera）公司 150?50 的电池小批量生产的光电转换效率达到

17.1%，该公司 1998 年的生产量达到 25.4MW。<br/><br/>（1）丝网印刷及其相关技术
<br/><br/>多晶硅电池的规模化生产中广泛使用了丝网印刷工艺，该工艺可用于扩散源的印
刷、正面金属电极、背接触电极，减反射膜层等，随着丝网材料的改善和工艺水平的提高，
丝网印刷工艺在太阳电池的生产中将会得到更加普遍的应用。

<br/><br/>a.发射区的形成

<br/><br/>利用丝网印刷形成 PN 结，代替常规的管式炉扩散工艺。一般在多晶硅的正面印
刷含磷的浆料、在反面印刷含铝的金属浆料。印刷完成后，扩散可在网带炉中完成（通常温
度在

900 度），这样，印刷、烘干、扩散可形成连续性生产。丝网印刷扩散技术所形成的发射

区通常表面浓度比较高，则表面光生载流子复合较大，为了克服这一缺点，工艺上采用了
下面的选择发射区工艺技术，使电池的转换效率得到进一步的提高。

<br/><br/>b.选择发射

区工艺

<br/><br/>在多晶硅电池的扩散工艺中，选择发射区技术分为局部腐蚀或两步扩散法。

局部腐蚀为用干法（例如反应离子腐蚀）或化学腐蚀的方法，将金属电极之间区域的重扩
散层腐蚀掉。最初，

Solarex 应用反应离子腐蚀的方法在同一台设备中，先用大反应功率腐

蚀掉金属电极间的重掺杂层，再用小功率沉积一层氮化硅薄膜，该膜层发挥减反射和电池
表面钝化的双重作用。在

100cm2 的多晶上作出转换效率超过 13％的电池。在同样面积上，

应用两部扩散法，未作机械绒面的情况下转换效率达到

16％。<br/><br/>c.背表面场的形成

<br/><br/>背 PN 结通常由丝网印刷 A 浆料并在网带炉中热退火后形成，该工艺在形成背表
面结的同时，对多晶硅中的杂质具有良好的吸除作用，铝吸杂过程一般在高温区段完成，
测量结果表明吸杂作用可使前道高温过程所造成的多晶硅少子寿命的下降得到恢复。良好的
背表面场可明显地提高电池的开路电压。

<br/><br/>d.丝网印刷金属电极<br/><br/>在规模化

生产中，丝网印刷工艺与真空蒸发、金属电镀等工艺相比，更具有优势，在目前的工艺中，
正面的印刷材料普遍选用含银的浆料，其主要原因是银具有良好的导电性、可焊性和在硅中
的低扩散性能。经丝网印刷、退火所形成的金属层的导电性能取决于浆料的化学成份、玻璃体
的含量、丝网的粗糟度、烧结条件和丝网版的厚度。八十年度初，丝网印刷具有一些缺陷，

ⅰ)

如栅线宽度较大，通常大于

150 微米；

ⅱ)造成遮光较大，电池填充因子较低；ⅲ)不适合表

面钝化，主要是表面扩散浓度较高，否则接触电阻较大。目前用先进的方法可丝网印出线宽
达

50 微米的栅线，厚度超过 15 微米，方块电阻为 2.5~4mΩ，该参数可满足高效电池的要

求。有人在

15?5 平方厘米的 Mc—Si 上对丝网印刷电极和蒸发电极所作太阳电池进行了比较，

各项参数几乎没有差距。