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TDR-90单晶炉技术数据和要求
简介：TDR-90单晶炉技术数据和要求
文档关键字： 单晶炉,技术,单晶炉技术数据
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单晶炉维修和保养规程
简介：坩埚轴驱动部件的维修； 谐波减速器的维修； 籽晶提拉部件的维修； 水冷系统的维修； 隔离阀的维修； 管道的维修； 单晶炉常见故障现象、原因及排除方法； 单晶炉部件拆装；
文档关键字： 单晶炉,维修,保养
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镀膜技术
简介：一种太阳能电池片镀膜工艺，包括如下次序步骤：A、放舟?把电池片放入到密闭容器中；B、抽真空?利用抽真空装置对密闭容器内部进行抽真空作业，在抽真空作业时分两步操作，前一步抽真空的作业速度要慢于后一步抽真空的作业速度，最终使密闭容器内的..
文档关键字： 镀膜技术,镀膜
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硅单晶生产工艺流程,
简介：1.硅料熔化 2.硅料稳定 3.缩颈/引晶 4.等径生长 5.收尾 6.退火
文档关键字： 硅单晶生产工艺流程,原材料,光伏,
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最全的太阳能电池生产设备
简介：最全的太阳能电池生产设备 一览表
文档关键字： 生产设备,光伏,太阳能电池
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76_2mm无位错FZ硅单晶的两种工艺热场分析
简介：对国产设备试制及生产5> 7612mm无位错FZ硅单晶的两种最为稳定的工艺热场作了较全面的分析总结。
文档关键字： 硅单晶,无位错,FZ工艺
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半导体硅片清洗工艺发展方向
简介：对半导体硅片传统的RCA清洗办法中各种清洗液的清洗原理、清洗特点、清洗局限以及清洗对硅片表面微观状态的影响进行了详细的论述，同时在此基础上，对新的清洗办法(改进的RCA清洗办法)进行了一定的说明，指出了硅片清洗工艺的发展方向。
文档关键字： RCA清洗,硅片清洗,硅片表面
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PECVD法生长氮化硅工艺的研究
简介：采用了等离子体增强化学气相沉积法在聚 酰亚胺牺牲层上生长氮化硅薄膜,讨论沉积温度、射频功率、反应气体流量比等工艺参数对氮化硅薄膜的生长速率、氮硅比、残余应力等性能的影响,得到适合制作接触式射频 MEMS开关中悬梁的氮化硅薄膜的最佳工艺..
文档关键字： PECVD,氮化硅,聚酰亚胺,残余应力
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直拉硅单晶工艺学
简介：硅单晶是一种半导体材料。直拉单晶硅工艺学是研究用直拉方法获得硅单晶的一门科学，它研究的主要内容：硅单晶生长的一般原理，直拉硅单晶生长工艺过程，改善直拉硅单晶性能的工艺方法。
文档关键字： 单晶硅工艺,导电性能,单晶炉结构
级别：| 积分：60 分 | 大小：891.75KB | 下载：1次 | 上传：2013-09-30
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