您好,欢迎来到一览文库!找行业资料上一览文库!
一览( 微信公众号:yilanshequ )

一览( 微信公众号:yilanshequ )

打开微信扫一扫,即可直接关注

收藏我们 | 登录 | 注册
当前位置:一览文库> 电气电力 > 光伏 > 工艺工程师/工艺员 > 半导体硅片清洗工艺发展方向
半导体硅片清洗工艺发展方向

半导体硅片清洗工艺发展方向

一览通:免费获取520份薪酬绩效文档

级别:| 积分:0 分 | 浏览:70166 | 大小:453.04KB | 下载:3865 次 | 上传:2013-09-30

简介:

对半导体硅片传统的RCA清洗办法中各种清洗液的清洗原理、清洗特点、清洗局限以及清洗对硅片表面微观状态的影响进行了详细的论述,同时在此基础上,对新的清洗办法(改进的RCA清洗办法)进行了一定的说明,指出了硅片清洗工艺的发展方向。

[展开]
         
下载文档到电脑,查找使用更方便
需0积分下载

猜你喜欢

收藏 下载此文档 所需积分:0分