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硅片的化学清洗原则与方法

硅片的化学清洗原则与方法

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级别:| 积分:0 分 | 浏览:40767 | 大小:25.47KB | 下载:2246 次 | 上传:2013-10-18

简介:

硅片清洗的一般原则是首先去除表面的有机沾污;然后溶解氧化层(因为氧化层是“沾污陷阱”,也会引入外延缺陷);最后再去除颗粒、金属沾污,同时使表面钝化。

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